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        日本thermo紅外線導(dǎo)入加熱裝置

        日本thermo紅外線導(dǎo)入加熱裝置

        產(chǎn)品型號: GVH198 / GVH298 / GV154

        所屬分類:

        產(chǎn)品時間:2025-08-02

        簡要描述:日本thermo紅外線導(dǎo)入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154
        只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境(例如超高真空或氣流)中的樣品,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。?
        可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。

        詳細(xì)說明:

        日本thermo紅外線導(dǎo)入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154

         

        說明

        只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境(例如超高真空或氣流)中的樣品,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。?
        可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
        Thermo Riko的主要型號。

        特點(diǎn)

        快速升溫:大加熱速度為150℃/秒,gao1500℃持續(xù)約1分鐘
        清潔加熱:無需擔(dān)心氣體的產(chǎn)生或熱源的電磁感應(yīng)
        局部供暖:僅用紅外光照射樣品,不加熱周圍區(qū)域
        可自由連接:可以連接到各種系統(tǒng)

        用途

        快速加熱和退火樣品,例如Si和SiC
        在氧化氣氛中形成氧化物晶體,形成薄膜
        在氫氣和氮?dú)庵屑訜峄?/td>
        X射線或UV照射過程中樣品的溫度升高
        解吸氣體分析儀,XPS,XRD,PLD等的加熱
        磁場加熱,非磁場加熱
        在加壓氣氛中加熱
        通過對樣品施加載荷來加熱

        日本thermo紅外線導(dǎo)入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154

        規(guī)格

        紅外線感應(yīng)加熱裝置根據(jù)應(yīng)用具有以下規(guī)格。 
          
         超高真空型支持 10 -9 Pa的超高真空。
         高速加熱型 大升溫速度為150℃/秒。
         常溫加熱型 可以對放置在大氣中的樣品進(jìn)行點(diǎn)加熱。
         加壓氣氛類型 可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。
         特殊規(guī)格 通過利用GV系列的功能,我們可以滿足各種要求,例如快速降低溫度,負(fù)載加熱和磁場加熱。
         請隨時與我們聯(lián)系。
         符合CE標(biāo)志 我們還生產(chǎn)符合CE標(biāo)志的規(guī)格。

        超高真空型GVH

        型號名稱GVH198GVH298
         紅外燈額定值1千瓦2千瓦
         gao溫度1200°攝氏度1400°攝氏度
         加熱面積φ20毫米
         大加熱速度1℃/秒
         大極限真空5×10 -9
         冷水量1升/分鐘2升/分鐘

        高速加熱型GV / GVL

        型號名稱GV154GV198GVL298GVL398
         紅外燈額定值500瓦1千瓦2千瓦3千瓦
         gao溫度1100°攝氏度1300°攝氏度1500°攝氏度1600°攝氏度
         加熱面積φ14毫米φ20毫米
         大加熱速度100°C /秒100-150°C /秒
         大極限真空5×10 -7
         冷水量1升/分鐘2升/分鐘

        加壓氣氛類型GVP

        型號名稱GVP198GVP298
         紅外燈額定值1千瓦2千瓦
         gao溫度1200°攝氏度1300°攝氏度
         加熱面積 φ20毫米
         大加熱速度 100°C /秒
         大耐壓 1MPa以下
         冷水量1升/分鐘2升/分鐘
        快速退火紅外感應(yīng)加熱系統(tǒng)GV1 / GV2
        底部照射型紅外熱處理設(shè)備RTA198 / RTA298
        熱脫附氣體分析儀GV2H
        用于磁場中樣品加熱的紅外引入加熱系統(tǒng)GVL298M / GV154M / GV-M 1
        用于X射線形貌的紅外感應(yīng)加熱裝置
        XPS設(shè)備安裝示例


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