半導體器件制造過程中液體成分濃度檢測設備ChemicAlyzer介紹
ChemicAlyzer是一款利用光吸收原理并采用在線設計實現連續測量的液體成分濃度計。自 1990 年作為紅外液體成分濃度計的先驅開始業務以來，我們利用豐富的專業知識和技術，響應不斷發展的半導體器件制造過程中的測量需求，提高質量和化學濃度。管理。
我們將通過靈活應對工藝和特殊化學溶液，并通過高精度化學濃度測量“滿足一步的測量需求"，繼續為制造工藝的優化做出貢獻。
我們為每個測量目標選擇最佳波長，并為每個設備創建校準曲線。
我們提供穩定的產品，機器變化很小，并通過了檢驗測試。
ChemicAlyzer 是一款高性能濃度計，具有出色的響應和分辨率。
可以控制濃度，而不會遺漏高度分解成分的哪怕最輕微的變化。
有助于降低長期運行成本。
十多年來，我們一直持續提供支持，并擁有客戶使用我們產品的記錄。
?抗蝕劑剝離液的濃度控制
?再生藥液的濃度管理
?后處理用化學溶液的濃度控制
?酸堿清洗液的濃度控制
?氧化膜/氮化膜蝕刻液的濃度控制
?其他特殊化學溶液的濃度控制
它還用于廣泛的行業，包括電池材料制造過程以及清酒和醋的發酵測量。
我們的高性能測量技術得到了高度評價，在日本、東亞和美國已銷售超過3,000臺！
| 測量方法 | 近紅外透射光譜 |
|---|---|
| 最短測量時間 | 2秒 |
| 測量值輸出 | DC4-20mA |
| 輸入信號 | 晶體管電流驅動輸入（測量、校準、預熱結束等） |
| 輸出信號 | 集電極開路輸出（READY、BUSY、設備錯誤、測量、成功、上下限報警等） |
| 接液部件材料 | 石英池規格：PFA、PTFE、石英（池）、全氟（O 型圈） 藍寶石池規格：PFA、PTFE、藍寶石（池）、Kalrez（O 型圈） |
| 最大工作壓力 | 0.2MPa |
| 配管直徑 | IN: Φ3 × Φ2 OUT: Φ4 × Φ3 (mm) 包含每根 1m 管 |
| 主要用途 | 成分1 | 成分2 | 成分3 | 評論 | 通用名 | 推薦高精度型 | 需要特殊波長 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 半導體 | 氨 | 雙氧水 | APM、SC1 | ||||
| 高頻 | |||||||
| 高頻 | 稀 | 氫氟酸 | ○ | ○ | |||
| H 2 SO 4 | 雙氧水 | SPM | |||||
| 高頻 | 雙氧水 | 氟甲基丙烯酸甲酯 | |||||
| 高頻 | 雙氧水 | 稀 | 氟甲基丙烯酸甲酯 | ○ | ○ | ||
| 高頻 | 鹽酸 | ○ | ○ | ||||
| 高頻 | H2SiF6 | ○ | |||||
| 人機交互 | 雙氧水 | HPM、SC2 | ○ | ||||
| 氫氧化鉀 | 雙氧水 | ||||||
| * | 雙氧水 | ||||||
| H 3 PO 4 | |||||||
| 高頻 | NH4F | ○ | |||||
| 高頻 | 硝酸3 | ○ | |||||
| 高頻 | 雙氧水 | CH3COOH | ◎ | ||||
| 液晶 | 四甲基氫氧化銨 | 開發商 | |||||
| H 3 PO 4 | 硝酸3 | CH3COOH | 蝕刻 | ◎ | |||
| H 2 SO 4 | 雙氧水 | 銅 | 蝕刻 | ◎ | ○ | ||
| 水 | 胺 | 溶劑 | 抗剝落 | ◎ | ○ | ||
| 其他的 | 異丙醇 | ||||||
| 水 | 有機溶劑中微量水分 | ○ | |||||
| CH3COOH | C2H5OH | 醋 | ○ | ||||
| C2H5OH | 葡萄糖 | 日本清酒 | ○ | ○ |
*由于采用光學方法，因此無法測量不透光的不透明化學溶液
