真空蒸鍍裝置VE-2013的特點

真空蒸鍍裝置VE-2013的特點

VE-2013是一款簡單的真空蒸鍍裝置，繼承了VE-2030（我公司制造）的概念。外殼內置TMP，實現緊湊外殼。由于是臺式機，所以不會占用太多空間。RP 放置在地板上。
我們使用緊湊的 TMP+RP 排氣系統以低廉的價格提供清潔、高真空的蒸發系統。它消除了復雜的排氣操作，只需觸摸面板開關的ON/OFF控制即可實現全自動。
使用鎢籃可以沉積金、鋁、鉻、銀等。碳蒸鍍采用夾具蒸鍍槍型，使用特殊碳（ SLC-30 ）進行蒸鍍。（不能使用φ5mm碳棒。）

購買時，您可以選擇碳氣相沉積電極或金屬氣相沉積電極。可以選擇購買額外的電極。

碳蒸發電極

這是專用的碳蒸發電極。
它可以在高真空區域進行碳蒸發，從而可以形成具有優異膜質量和膜強度的碳膜。
附帶的防塵蓋將碳蒸氣沉積的散射范圍降至必要的低限度，從而減輕了清潔的負擔。
使用特種碳（SLC-30）作為積碳源。

金屬蒸鍍電極

這是直徑0.5mm鎢籃專用的金屬蒸鍍電極。
可以輕松簡便地進行金、鋁、鉻等的氣相沉積。隨附的防塵蓋可最大限度地減少沉積區域并減輕清潔負擔。

主要產品規格