microphase石墨烯合成裝置MPCVD-50介紹

發(fā)布時(shí)間：2022-09-07　點(diǎn)擊量：1956

microphase石墨烯合成裝置MPCVD-50介紹

用于碳納米管的合成、碳成膜、納米陶瓷成膜、氮化、硫?qū)倩锍赡さ取?/p>

目的：	用于合成碳納米管、在粉末樣品上沉積碳膜以及各種 CVD 膜沉積的通用管式爐型熱 CVD 設(shè)備。通過增加氨氣、各種CVD反應(yīng)氣體、升華固體前驅(qū)體、液體前驅(qū)體的引入單元，可應(yīng)用于氮化、硫?qū)倩铮ǘ蚧fMoS2等）層狀材料沉積等。
特征：	配備液體燃料（乙醇）引入系統(tǒng)，可用于無法安裝烴類氣體的場所。　3系統(tǒng)質(zhì)量流量氣體流量控制系統(tǒng)，可以進(jìn)行精確的氣體控制。　真空排氣系統(tǒng)是標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備，可用作真空爐或氣氛爐。　緊湊而堅(jiān)固的外殼設(shè)計(jì)，易于安裝在桌面實(shí)驗(yàn)室工作臺(tái)上。　高度可擴(kuò)展且易于處理任何類型的處理。

目的：

用于合成碳納米管、在粉末樣品上沉積碳膜以及各種 CVD 膜沉積的通用管式爐型熱 CVD 設(shè)備。
通過增加氨氣、各種CVD反應(yīng)氣體、升華固體前驅(qū)體、液體前驅(qū)體的引入單元，
可應(yīng)用于氮化、硫?qū)倩铮ǘ蚧fMoS2等）層狀材料沉積等。

特征：

LIB電池用Si負(fù)極材料上的碳涂層

二硫化鉬薄膜

長 CNT/Si 的 SEM 圖像

粉末狀 CNT 的 SEM 圖像

主要規(guī)格